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本发明公开了一种光栅耦合表面发射的超辐射发光二极管结构，该结构的中心区域为有源区，有源区周边为环绕光栅，环绕光栅为无源区。在该结构的有源区注以电流，使有源区产生超辐射光，作为无源区的环绕光栅将传播至环绕光栅下方的超辐射光耦合至该结构表面并输出。本发明提供的是一种全新的光栅耦合表面发射的超辐射发光二极管结构，具有发散角小和光斑形状规则、大出光面积以及易于片上测试和集成等诸多优点 ...
王占国, 安琪, 金鹏
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, 2013 本发明提出了一种基于变积分时间的面阵红外相机快速定标与非均匀性校正方法，包括以下步骤：红外面阵相机成像系统上电后，微型电机驱动遮光片将光路遮挡；时序驱动模块产生3个不同的积分时间T1，T2，T3，同时图像采集模块采集F(F≥50)帧不同积分时间下的响应数据n＝1～50，(i，j)为像元坐标，并计算出各自的均值X1(i，j)，X2(i，j)，X3(i，j)；本发明基于变积分时间的面阵红外相机快速定标与非均匀性校正方法，该方法实现过程简单，不依赖于黑体及其控温装置，所需的积分时间点少 ...
张建 +7 more
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, 2013 一种双积分球功率计响应不一致性的标定方法，包括：1）构建实际双光路测试系统；2）将第一积分球以及第二积分球分别置于双光路测试系统中，并求解双光路测试系统的取样系数，定义该双光路测试系统的取样系数是前次取样系数；3）将第一积分球与第二积分球的位置互换后分别置于双光路测试系统中，并再次求解双光路测试系统的取样系数，定义该双光路测试系统的取样系数是后次取样系数；4）由前次取样系数的值以及后次取样系数的值推导并求解出双光路测试系统的实际强度取样系数；5 ...
田新峰, 李红光, 达争尚, 王伟
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靶向抑制生长分化因子3减轻内皮细胞炎症反应并抑制脉络膜新生血管
Zhongshan Daxue xuebao. Yixue kexue ban目的揭示靶向抑制生长分化因子3（GDF3）对脉络膜新生血管（CNV）形成及内皮炎症反应的影响。方法构建激光诱导的小鼠CNV模型，通过RNA测序（RNA-seq）筛选差异基因。采用实时荧光定量PCR（RT-qPCR）和Western blot验证GDF3表达水平。通过siRNA及中和抗体拮抗内皮细胞GDF3，采用CCK8实验、划痕实验及成管实验评估内皮细胞增殖、迁移和血管生成能力。检测炎症/黏附分子表达变化，分析免疫细胞黏附和跨内皮迁移实验变化。在CNV模型中，通过玻璃体腔注射shRNA靶向抑制GDF3 ...
唐榕穗, 田壹, 熊振, 李旭日
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, 2010 本实用新型涉及一种蒸发池的水面指示器，该指示器是由静水器、溢流管、夹子、挡片、通水孔、溢流筒和量水筒组成。将该指示器固定在现有的20m2的蒸发池一侧的池壁上，形成了溢流系统，用体积法观测蒸发量。从而解决了蒸发池内水深不稳定的状况 ...
王积强.
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, 2012 利用有限元数值分析方法研究了混合型PCF（光子晶体光纤）的色散、损耗、模场面积和非线性等特性。仿真结果表明:混合型PCF在0.6～2.0μm波长范围内的限制损耗降至10-6 dB/m量级,并且满足双零色散点的需求,同时这种混合型PCF的模场面积在长波长范围内达到了755μm2,非线性系数为1.039×10-4 m-1 W-1 ...
李晓文, 英海燕, 陈德玺
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大鼠纹状体Patch和Matrix间区及其神经元 形态学特征的观察
Zhongshan Daxue xuebao. Yixue kexue ban, 2009 【目的】 纹状体Patch和Matrix间区被证实与神经精神活动和躯体运动有关65377;本实验旨在探测Patch和Matrix 间区及其神经元的形态学特征,为研究纹状体-Patch和-Matrix神经元的通路联系提供资料65377;【方法】 成年雄性SD大鼠分别按照常规和电镜要求灌注固定65380;取脑和后固定;半导体或振动切片之后进行免疫组化PAP方法单标记和双标记;光镜下分别用Photoshop软件测量Patch和Matrix间区的面积并计算百分比;光镜和电镜下观察阳性神经元的结构 ...
doaj
, 2016 本发明公开了一种耐腐蚀高反光的正面镜，包括玻璃基体与沉积在玻璃基底上的反光涂层，该反光涂层为非晶结构，涂层致密，组成为(Ti100‑xMex)yB100‑y，其中，0≤x≤25，50≤y≤80，Me包括Mo或Al；该正面镜具有反光率高、耐腐蚀、耐刮擦的优点。本发明还公开了该正面镜的制备工艺 ...
孟凡平, 李朋, 徐相英, 黄峰
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ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究
, 1999 介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR Plasma CVD)法淀积808nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺，给出工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性 ...
谭满清, 茅冬生
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, 2011 本实用新型涉及一种高功率激光远场焦斑测试用纹影器件，包括挡光片以及设置于挡光片外部的透光罩。本实用新型提供了一种挡光效果好，耐激光辐照以及不会对测量造成任何影响的高功率激光远场焦斑测试用纹影器件。
董晓娜, 李红光, 孙策, 达争尚
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