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Gongye shui chuli, 2020 采用一步共沉淀法合成了磁性石墨烯（MRE）复合材料，通过XRD、SEM和VSM等技术对其进行了表征分析。将MRE与阴极区域原位生成的H2O2组成电Fenton体系，考察了不同因素对3-氯代丙二醇（CP）去除率的影响。结果显示，溶液中氯离子的去除率为99.58%，COD的去除率为89.30%，TOC的去除率为70.32%。
聂荣健 +6 more
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Gongye shui chuli, 2023 针对燃煤电厂脱硫废水中存在多种重金属离子的水质特点，采用模拟废水研究了层状双金属氢氧化物（LDHs）对重金属的去除效果和去除机理。采用共沉淀法制备了弗里德尔盐（Fs）和钙矾石（Ett）2种LDHs重金属吸附剂，探究了其投加量、废水初始pH和废水中共存离子对重金属去除效果的影响，结合动力学研究，阐释了LDHs对重金属的吸附机理。结果表明：当Ett和Fs投加质量浓度分别为0.15、0.07 g/L时，模拟废水中Zn（Ⅱ）、Cd（Ⅱ）、Pb（Ⅱ）、Cr（Ⅵ）的去除率均可达90%以上；当废水初始pH＞5.0时 ...
刘亚鹏 +8 more
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共沉淀法制备LiNi_(1-x-y)Co_xMn_yO_2正极材料工艺条件探究
, 2017 共沉淀法可高效、低能耗制备出较高纯度的球形层状Li Ni1-x-yCoxMnyO2正极材料,广泛应用于基础研究和工业生产中,主要包括液相共沉淀及高温煅烧过程。对这两个过程中涉及的机理进行了阐述,并分析相关影响因素,考察了共沉淀制备前体这个关键步骤中颗粒成核过程以及Ni、Co、Mn 3种金属离子发生的络合及沉淀反应。通过建立的反应和热力学平衡方程,分析未沉淀的3种金属离子及其相互之间比值随pH和氨水加入量的二维变化,首次定量得出制备所需Ni、Co、Mn配比三元正极材料的理论最佳条件。此外 ...
杨超 +4 more
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四川大学学报. 自然科学版, 2011 Fe3O4磁性纳米粒在工程技术、电子及生物医学等领域具有十分广泛的应用.不同的制备方法及表面改性技术可以得到不同表面特性的纳米粒.而不同的表面特性,其物理和化学性质也存在着巨大差别.因此,深入了解Fe3O4磁性纳米粒表面物理性质,以及不同官能基团与粒表面的结合方式等具有十分重要的意义.本论文分别利用X射线光电子能谱（XPS）及X射线衍射分析（XRD）两种重要的材料分析技术,对共沉淀法和高温分解法制备得到的Fe3O4纳米粒,以及多巴胺改性后的Fe3O4纳米粒表面进行分析,结果表明 ...
朱荣 +4 more
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共沉淀-煅烧法制备CeO↓2-Y↓2O↓3-ZrO↓2陶瓷粉末
, 1997 采用共沉淀－煅烧法制备了ＣｅＯ２－Ｙ２Ｏ３－ＺｒＯ２（ＣＹＺ）三元复合氧化物陶瓷粉末，所制备的ＣＹＺ粉末为稳定的四方相结构，在高于１４００℃的温度下煅烧，其流动性大为改善 ...
张冠东, 李报厚, 张登君
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四川大学学报. 自然科学版, 2013 用乙醇沉淀、Sevag法除蛋白等方法得到羊肚菌菌丝体胞外粗多糖,并进一步通过离子交换色谱、分子筛色谱对粗多糖进行分离纯化,得到单一多糖组分MEP3A.经外光谱法、紫外光谱法、核磁共振法等仪器分析方法确定该多糖组分结构为直链→6)-α-D-Man p-(1→,分子量81.2kDa,不含蛋白质、多肽和氨基酸.采用MTT法检测表明,该多糖组分可促进小鼠脾淋巴细胞增殖,具有免疫调节活性.
余梦瑶 +5 more
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Gongye shui chuli, 2020 采用微乳共沉淀法制备磁性离子液体石墨烯（MILG），将其作为磁性固相萃取吸附剂，结合超高效液相色谱-串联质谱法实现对环境水样中7种三嗪类除草剂的定量分析。通过对影响因素的优化，在中性溶液中采用10 mgMILG作为萃取剂，吸附20 min萃取效果最佳。7种三嗪类除草剂的检出限为1.1~2.8 ng/L，实际水样中加标回收率为57.8%~101.2%，相对标准偏差在9.1%以内。
鲍秀敏 +6 more
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, 2012 应用电化学方法研究了混价铁氢氧化物对磷的吸附/沉淀及主要环境因素的影响。结果表明,混价铁氢氧化物通过吸附/沉淀可将水溶性磷维持在较低水平,该吸附较好地符合Langmuir方程(R2=0.9742),混价铁氢氧化物对磷的最大吸附容量为56.8 mg/g;亚铁比例越高,单位铁的磷吸附/沉淀容量越高;混价铁氢氧化物氧化导致磷吸附容量降低;pH为中性时,混价铁氢氧化物的磷吸附容量最大,弱酸、弱碱性则不利于磷的吸附;钙离子可增加混价铁氢氧化物的磷吸附容量;硫离子则相反,原因是硫离子促进了三价铁还原及硫化亚铁的形成;
张雯, 李清曼, 阚丹, 孙静娴
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Dianci bileiqi, 2003 在低温下,采用溶胶均匀共沉淀法合成了含少量稀土氧化物CeO2的棕色陶瓷颜料,并应用颜色测定、SEM及XRD分析等手段对颜料的颜色、粒度及结晶构造进行了表征。同时,将合成的颜料应用于陶瓷釉料中,表明该颜料可以应用于1320℃的高温环境下。
黄剑锋 +3 more
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ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究
, 1999 介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR Plasma CVD)法淀积808nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺，给出工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性 ...
谭满清, 茅冬生
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