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多级沉淀法处理含砷废水

open access: yes, 2017
提出了一种处理低浓度含砷废水的新方法,通过控制pH值进行多级沉淀得到了含水率低、过滤性能良好、性质稳定的固砷沉淀.使用该法处理1 g/L的低砷废水,在Fe/As摩尔比为7.9、初始pH 1.5、反应温度95℃、终点pH 6.0的条件下的除砷率可达100%.
张广积   +3 more
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尿素水解均匀沉淀法制Cu/ZnO/Al2O3甲醇合成催化剂

open access: yes, 2004
甲醇是富氯液体,可通过水蒸气重整制氢用于燃料电池的氢源,是最有希望成为燃料电池电动汽车的燃料,目前这方面的研究颇受重视。现代甲醇工业是通过合成气在催化剂作用下反应制得的,所用催化剂主要为Cu/ZnO/Al2O3。为了进一步提高催化剂的性能,近年来关于催化剂制备方法的文献发表较多。吴晓晖等考察了草酸盐胶体法制备Cu/ZnO/Al2O3甲醇合成催化剂的性能,洪中山等用凝胶网格共沉淀法制得Cu/ZnO/Al2O3甲醇合成催化剂,郭宪吉等则考察了添加Mn助剂对Cu/ZnO ...
常杰, 阴秀丽, 吕鹏梅, 汪俊锋
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光伏企业生产废水处理工程实例

open access: yesGongye shui chuli
根据光伏企业生产废水水质特征,按照分类收集、分质处理原则,将含氟废水经混凝沉淀预处理后再与综合废水合并,采用电催化-混凝沉淀-管式微滤-UASB-AO组合工艺进行处理。运行结果表明,该工艺对光伏企业综合废水中的污染物有较高的去除率,对F-、CODCr、BOD5、NH4+-N、TN和SS的最终去除率分别达到了89.1%、97.6%、96.5%、90.6%、84.3%和85.3%,出水水质可以达到《电池工业污染物排放标准》(GB 30484—2013)表2新建企业水污染物间接排放标准要求 ...
杨伟球, 史广宇
doaj  

ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究

open access: yes, 1999
介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR Plasma CVD)法淀积808nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺,给出工艺条件,探索了膜系监控的方法和优越性 ...
谭满清, 茅冬生
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ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术

open access: yes, 1999
介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR plasma CVD)法淀积980nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件,探索了膜系监控的方法和优越性 ...
李玉璋   +3 more
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