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二级絮凝沉淀—厌氧—生物接触氧化法治理糠醛废水

open access: yesGongye shui chuli, 2006
针对糠醛生产工艺与生产废水水质特点,采用二级化学絮凝沉淀、厌氧、生物接触氧化法治理糠醛废水,工艺手段成熟可靠,确保达标排放,且运行成本低,适宜大、中、小型糠醛生产厂家采用。
庞艳   +7 more
doaj  

浅谈研究所资金沉淀问题

open access: yes, 2005
随着中国科学院知识创新工程的实施,各研究所财政补贴收入也大量增加,货币资金存量也随之增长,因而在科研资金的管理上也出现了新的问题,如存在不同程度的“资金沉淀”现象。本文分析了“资金沉淀”现象产生的原因及其弊端,“资金沉淀”的种类 ...
董耕宇, 廖彩菊
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流化床化学气相沉积法制备近化学计量比的TiN粉体

open access: yes, 2020
传统气-固反应工艺制备TiN粉体存在难以逾越的内扩散控制过程,导致制备高纯、正化学计量比的TiN粉体至今存在巨大困难。提出了流态化化学气相沉积工艺(FBCVD)制备高质量TiN粉体,即基于TiCl4-N2-H2体系,在往复运动的TiN种子粉体上沉积新生高质量TiN粉体的新方法。实验发现,当TiN种子粉体粒径大于52.95μm时,即使在1000℃沉积2 h也不会失流,同时在TiN种子粉体上获得了亚微米级的结节状新生TiN颗粒。通过氧氮分析仪和XRD分析发现,新方法显著提升了粉体的氮含量 ...
朱庆山, 向茂乔, 宋淼, 桑元
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化学合成法改进对ZnO压敏电阻片复合粉体的影响

open access: yesDianci bileiqi, 2004
通过对化学合成法进行改进以适应ZnO压敏电阻片复合添加剂制备的需要,针对化学合成法的不足,提出了解决技术籽晶分布包膜技术,通过控制籽晶、沉淀剂、分散剂、pH值、化学反应进程和温度等因素,获得离子级均匀混合的ZnO压敏电阻片复合添加剂复合粉体前驱体,为进一步获得高性能ZnO压敏电阻片打下了坚实的基础。
王玉平, 李盛涛
doaj  

化学气相沉积碳化硅

open access: yes, 2006
<正>以甲烷,四氯化硅和氢气作为前驱体,堇青石作为沉积基体,采用竖式化学气相沉积炉研究了常压下不同流量,不同温度对化学气相沉积碳化硅过程速率的影响;分别用偏光显微镜、扫描电子显微镜、投射电子显微镜以及拉曼光谱考察了沉积的碳化硅的组织结构和微观结构。研究表明:在化学气相沉积碳化硅的过程中,并不是碳和硅独立沉积的,而是甲烷和四氯化硅生成大分子的碳(氯)硅烷,然后再生成碳化硅。速率明显提高,是因为生成的硅的聚合物活性高 ...
杨艳
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化学混凝沉淀+超滤+离子交换树脂工艺处理高浓度含氟废水

open access: yesGongye shui chuli
铀转化生产过程中产生大量高浓度含氟废水,这些废水必须得到经济有效的处理后才能排放。采用“化学混凝沉淀+超滤+阴离子交换树脂”组合工艺处理该类高浓度含氟废水。运行结果表明,在进水氟质量浓度在15 000~17 000 mg/L之间时,化学混凝沉淀工艺能去除废水中大部分的氟,出水氟质量浓度可降至35~70 mg/L;超滤对沉淀后的压滤液也能起到很好的除氟作用,出水氟质量浓度能降到8~15 mg/L;阴离子交换树脂能有效吸附超滤清液中残留的氟,出水氟质量浓度稳定在2 mg/L以下,达到《污水综合排放标准 ...
高彦林   +3 more
doaj  

页岩气压裂返排液处理装置的研制与应用

open access: yesShiyou jixie, 2015
针对页岩气开发中压裂返排液的污染问题,采用化学处理、物化处理和电化学处理相结合的方法,通过橇装结构设计以及化学加药模块、絮凝反应模块、沉降脱固模块和过滤处理模块设计,研制了压裂返排液处理装置。该装置处理量达到20 m3/h,满足页岩气区块实时处理要求。现场应用结果表明,按压裂返排液处理装置工艺流程处理后的水样与减阻水配伍性能良好,不产生沉淀物,其表现黏度、交联时间和耐温耐剪切性能均可满足压裂返排液重复利用要求;采用联合处理方式比单独采用化学加药方式可减少化学药剂投加量(60~70 ...

doaj  

稀土配合物的配位数和配位原子

open access: yes, 1990
<正> 稀土配位化学在整个配位化学中占有突出的地位.S.P.Sinha等曾对截止到1982年的220个稀土配合物作过统计.??等于1984年曾对稀土元素化合物的晶体结构特征进行过综述.本文利用剑桥数据库的资料在中国科学院化工冶金所的Vax机系统上运行,从七万多个配合物的结构数据中检索到686个稀土配合物的结构数据.它包括1935-1988年全部公开发表了的并已收入数据库的数据 ...
徐光宪   +5 more
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初探化学合成制粉工艺对ZnO压敏电阻U1mA/mm值的影响 附视频

open access: yesDianci bileiqi, 1998
用电子探针对比观测了采用化学共沉淀法制粉和机械混合法制粉的压敏电阻的微观结构;得出化学合成制粉工艺使压敏电阻U1mA/mm升高的原因是由于粉料组分的均匀分布使得其晶界组分的浓度均匀且高于机械混合制粉阀片中的晶界组分贫化区浓度,从整体上抑制了烧结过程中的晶粒长大。
费自豪   +4 more
doaj  

泥沙在动水中的沉淀运动(二)——泥沙在层流中的沉淀运动

open access: yes, 1957
在前文中我们已经给出小球在不均匀流场中运动时所受到的阻力。本文中我们假定泥沙和水为两种不同的介质,同时假定泥沙的浓度很小。利用前文所得到的阻力公式,我们建立了在层流状态时泥沙和水各自的运动方程组。然后利用这一组方程来讨论明渠中水流流态为层流时泥沙沉淀的情况。最后我们得到泥沙和水的相对速度在主流方向的分量并不等于零。同时我们求得根据简单假定来计算时所引起的沉积位置的误差。这个误差和水深成正比而和泥沙颗粒的大小无关。一般说来 ...
蔡树棠
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