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Veterinary Dermatology, Volume 34, Issue 3, Page 222-234, June 2023., 2023 Background – Mycophenolate mofetil (MMF) is the prodrug of mycophenolic acid (MPA) which acts as an immunosuppressive agent. During the biotransformation of MMF to MPA, additional metabolites including MPA phenol glucuronide (MPAG), MPA acyl glucuronide (AcMPAG) and MPA phenol glucoside (MPG) are formed.
Dylan L. Burroughs +6 more
wiley +1 more source
Gongye shui chuli, 2022 反渗透膜污染常见于电厂锅炉补给水处理系统。针对某电厂2套反渗透装置发生的污堵，分析了污堵情况，体现在一段压差增大和流量下降；利用探针试验和化学测定的方法确定了污染物类型，主要为微生物污染、金属氧化物和胶体污染，并分析了污染原因。采用非氧化性杀菌剂清洗和碱洗相结合的清洗方法，对反渗透膜进行了化学清洗。详细描述了清洗流程及工艺控制要点，对清洗前后数据进行分析，清洗后一段压差下降至清洗前的50%，恢复至0.08~0.11 MPa，进水流量和产水流量分别提高了26%和27.5%，达到了理想的清洗效果。
顿小宝 +4 more
doaj
Gongye shui chuli, 2021 针对某炼化公司循环水系统水质恶化情况，选择膜生物反应器（MBR）与频繁倒极电渗析（EDR）组合工艺深度处理循环水旁滤反洗废水和清净废水。深度处理后出水水质良好，满足《石油化工污水再生利用设计规范》（SH 3173—2013）要求，应用数字化技术使循环水系统运行更加稳定。工程运行费用为1.87元/t，EDR在线化学清洗周期为50~60 d，离线清洗周期为12~14月。
侯晓峰, 赵谨, 朱安民
doaj
Gongye shui chuli, 2021 针对低温多效海水淡化离子阱长期运行中产生的腐蚀污堵问题，采用XRF分析了填料铝环垢样的元素组成，根据溶垢率和腐蚀速率对比筛选出清洗介质，并设计现场清洗方案，最后通过监测铝环的表面形貌分析、溶垢率及腐蚀速率以及清洗前后对Fe3+去除率的对比等对清洗效果进行了评价。结果表明：采用质量分数为2%的氨基磺酸为清洗剂进行循环清洗，能够有效去除离子阱铝环表面垢样，溶垢率达80%以上，同时控制铝环腐蚀速率小于0.41 g/（m2·h），远低于HG/T 2387-2007《工业设备化学清洗质量标准》的要求 ...
依庆文
doaj
Gongye shui chuli, 2021 碳化硅（SiC）陶瓷膜除了具有无机膜的一般特性，还具有优异的机械强度、耐酸碱腐蚀性、生物相容性和化学惰性。随着膜制备工艺的不断发展和成熟，SiC陶瓷膜的结构和性能也在不断地改进和优化。在膜分离技术的发展与应用上，SiC陶瓷膜因具有渗透通量高、反冲洗效果好、易化学清洗且清洗周期长等特征，在能源、化工、冶金、石化、造纸、印刷、烟草和制药等领域显示出巨大的应用前景。对近期国内外SiC陶瓷膜分离技术的应用研究进展进行梳理，同时对当下SiC陶瓷膜分离技术的应用研究遇到的瓶颈性问题进行分析和讨论。
余炎子 +4 more
doaj
Gongye shui chuli, 1996 在火力发电厂电站锅炉压力容器的化学清洗工作中，如何提高和保证化学清洗质量，使我们的化学清洗工作质量达到上乘水平，这是每一个化学清洗工作者所关心的事情。作者通过在化学清洗的实施中遇到临时清洗循环系统引起清洗质量的具体问题，提出了改进措施，使目前富有生命力的化学清洗工艺得到了进一步的丰富完善。
庞明远
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Gongye shui chuli, 2003 介绍了国华准格尔工程#1机组EDTA协调化学清洗的清洗参数的确定、清洗范围及工艺过程;与传统的EDTA清洗工艺不同之处。对EDTA大范围热力系统清洗、除氧器水箱用作EDTA化学清洗临时配药箱、采用给水泵前置泵作EDTA化学清洗循环动力等几个问题进行了阐述分析。
苏志林
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Gongye shui chuli, 2002 着重介绍了 210MW机组凝汽器的酸洗除垢工艺,化学清洗过程及清洗效果的检查与评价,并围绕着凝汽器化学清洗的除垢率、腐蚀速率进行了深入的讨论。
李洪志, 王纯双
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Gongye shui chuli, 2013 影响反渗透膜离线化学清洗效果的因素较多,通过对反渗透膜离线化学清洗实践的总结,对影响其清洗效果的因素进行分析,从而确定合适的离线清洗条件,为今后反渗透膜离线清洗提供一定的技术支持。
王磊, 王峰, 胡志强, 董敏华
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