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清洗后硅片表面的电子结构

open access: yes, 2002
介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等,把它和标准RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明,经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成,它们分别以Si-O健、C-O健和Si-C键的形式存在。两种清洗技术都在硅片表面产生氧化硅层,在硅片表面都存在有机碳污染,但新型半导体清洗工艺产生的有机碳污染少于标准RCA清洗。在对硅片表面的粗糙化影响方面 ...
曹宝成   +4 more
core  

[Clinical efficacy of applying orthoplastic principle in treating Gustilo type ⅢB open ankle joint fractures]. [PDF]

open access: yesZhonghua Shao Shang Yu Chuang Mian Xiu Fu Za Zhi
Lin F   +8 more
europepmc   +1 more source

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