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为了压制均匀致密的氧化锌压敏电阻片坯体,对比不同厂家的氧化锌的堆积密度、粉体粒度、透射电镜照片、料浆粘度及造粒料的粒度分布和形貌,指出氧化锌浆料的粘度和造粒后颗粒的形貌在很大程度上取决于原材料的颗粒形貌,并提出把堆积密度作为反映原料颗粒形貌的一个参数。并为氧化锌压敏电阻片的生产厂家选择合适的氧化锌及生产稳定产品提供了一个简便的方法。
刘明新 +4 more
doaj
Fabrication and Applications of Ag/ZnO Nanoarrays Based on Manipulation of Surface Plasmon Resonance [PDF]
金属纳米材料因其特有的局域表面等离激元共振特性(Localsurfaceplasmonresonance,LSPR)而广泛应用于半导体材料发光、太阳能电池、表面增强Raman散射(SurfaceenhancedRamanscattering,SERS)探测、光电化学等领域。表面等离激元共振特性主要表现在远场散射增强和近场局域增强两个方面:远场散射可以实现金属纳米颗粒周围半导体的光吸收和发射效率的提升;而高度局域的近场则可用于调控颗粒周围的光子态密度分布,与半导体中的激子有效耦合,以改善其发光特性,同时 ...
臧雅姝
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Main influencing factors and research progress of zinc oxide desulfurization performance at room temperature [PDF]
H2S is a colorless and highly toxic gas with rotten eggs-like odor, which widely presents in coal derived gas, biogas, natural gas and other industrial gases.
Chao YANG +5 more
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为得到特高压交流氧化锌避雷器电位分布情况,采用有限元数值计算方法,建立三维模型,对1 000 kV交流氧化锌避雷器的电场进行仿真计算,得到避雷器的电位分布及氧化锌电阻片的容性电流值。应用光纤—电流法进行带电试验,测量了氧化锌电阻片的容性电流,经计算结果与测量结果对比验证了仿真模型的准确性。文中从氧化锌电阻片相对介电常数大小和均压环罩入深度角度,分析了影响避雷器电位分布均匀程度的因素。结论:氧化锌避雷器电位分布均匀程度随氧化锌电阻片相对介电常数的增大而提高;下层均压环罩入深度不变时 ...
刘博垚 +5 more
doaj
[In vivo biological safety study of porous zinc oxide/hydroxyapatite composite materials]. [PDF]
Li J, Zhu B, Zhang Y, Meng Z.
europepmc +1 more source
Synthesis and Properties of Porous/Hollow Nanomaterials [PDF]
近些年来,人们逐渐发现多孔、空心纳米材料由于具有比表面积大、体积密度小、相对质量轻等特点导致不同于块状材料特殊性能,在物理、化学、生物、材料科学众多科学领域有着广泛的应用前景。通过各种手段合成多孔、空心纳米材料,并应用在锂离子电池、光学、催化、污水处理等领域的研究是现在最具有挑战性的课题之一。此外,多孔材料的应用受到形态的影响,因此多孔材料的形态可控合成也越来越受到重视。本论文运用热分解和牺牲模板的方法合成具有特定形态的多孔、空心纳米材料,并对所合成产物的性质做了系统的研究。 论文中 ...
郑君
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金属氧化物避雷器的关键部件为氧化锌电阻片。由于氧化锌电阻片易与空气中的潮气反应,使其残压值下降,导致避雷器保护性能变差。籍此,选择一种玻璃来填充瓷套与氧化锌电阻片之间的间隙,达到密封的目的。试验结果表明:在PbO-B2O3-SiO2系统为主体的玻璃中加入少量的添加剂和填料,可以达到瓷套与氧化锌电阻片之间的匹配和封接的目的。
刘新年, 郭宏伟, 高档妮
doaj
Direct growth of hexagonal BN films on various substrates and induction of ZnO nanorod array for piezoelectric nanogenerators [PDF]
近年来,随着二维材料受到广泛的关注,六角氮化硼(h-BN)由于其类石墨烯的层状晶体结构,且拥有独特的特性,如宽禁带(6.0eV)、高的热稳定性(>800ºC)、强机械强度等,成为新型材料研究的热点。在短波长光电器件、高功率和高频率电子器件的开发和需求日益提升的过程中,h-BN薄膜材料研究中也面对了几个关键性、挑战性的难题:其一,大规模生产的新型光电子器件对所需的二维材料有了更高的要求,强烈需要一个大尺寸(晶圆尺寸以上)的薄膜合成,特别是在大小有限的反应腔体中合成大尺寸的h-BN薄膜;其二 ...
ABDUL MAJID
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Scanning Micro Electrochemical Cell Technique and Its Application into Microfabrication [PDF]
微纳制造技术是关系国家战略暨国民经济的基础制造产业——超大规模集成电路(ULSI)、微机电系统(MEMS)、微全分析系统(μ-TAS)、现代精密光学系统等——的核心支撑技术。其中,电化学微纳加工技术在微纳制造产业中起着举足轻重的作用。一般地,电化学微纳加工技术包括掩膜加工技术(比如LIGA技术、EFAB技术、约束刻蚀剂层技术等)和非掩模加工技术(比如超短脉冲电化学加工、扫描电化学显微镜(SECM)等),用于构筑3D微纳米功能结构或超光滑表面的制造。 本论文在SECM微加工技术的基础之上 ...
杨德志
core

