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图形衬底上应变SiGe/Si超晶格的结构及光致发光研究

open access: yes, 1999
该文研究了在Si的图形衬底上生长应变SiGe/SI超晶格的结构和其光致发光性质。图形衬底由光刻形成的类金字塔结构组成。发现在组成倒金字塔结构的(111)面的交界处有富Ge的SiGe量子线出现。对相同条件下图形衬底和平面衬底上的应变SiGe层的光致发光光谱进行了比较,图形衬底上总的发光强度相对提高了5.2倍 ...
高俊华   +6 more
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[Research progress on cellular senescence and liver diseases]. [PDF]

open access: yesZhonghua Gan Zang Bing Za Zhi
Zhang LT, Hu JM, Wang JW, Li H, Qin YJ.
europepmc   +1 more source

低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜

open access: yes, 2004
利用质量分离的低能离子束技术 ,获得了Fe组分渐变的Fe Si薄膜。利用俄歇电子能谱法 (AES)、X射线衍射法 (XRD)以及X射线光电子能谱法 (XPS)测试了薄膜的组分、结构特性。测试结果表明 ,在室温下制备的Fe Si薄膜呈非晶态。非晶薄膜在 40 0℃下退火 2 0min后晶化 ,没有Fe的硅化物相形成。退火后Fe ...
刘志凯   +6 more
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饱和砂土液化引起的变形研究

open access: yes, 2002
为了考察饱和砂土液化后的大变形及对海工结构物的影响,着重讨论了振动载荷作用下,荷幅值和频率以及土体渗透性对土体的变形的影响 ...
鲁晓兵
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动态载荷下Al—Li合金剪切变形局部化

open access: yes, 1999
采用Hopkinson压杆装置,对4种时效处理的Al-Li合金在冲击压缩试验时变形局部化产生的力学条件和微结构进行了研究,结果指出,4种处理的合金均产生两种类型的剪切带即形变剪切带和白剪切带,它们是在局部化过程中不同形变阶段下形的。两者无本质上的差别。白色剪切带内未发生相变。大应变和高应变率是产生力剪切带的必要条件,即材料在一定的高应变率下形变到一定程度时才能形成剪切带,电镜研究表明 ...
沈乐天   +4 more
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