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离子交换-ICP发射光谱法测定水中微量Cr(Ⅵ)和Cr(Ⅲ)

open access: yesGongye shui chuli, 1987
本文研究了用国产树脂分离富集水中微量Cr(Ⅵ)和Cr(Ⅲ),并用ICP发射光谱法直接测定洗脱液中Cr(Ⅵ)和Cr(Ⅲ)的方法。文中用正交试验法选择离子交换条件,方法快速、准确。本方法可将0.05PPm数量级的Cr(Ⅵ)和Cr(Ⅲ)进行较完全的分离和有效的富集。适于环境监测工作中对有害铬的测定。
邓名馨, 尹世荣
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典型重金属离子印迹技术 [PDF]

open access: yes, 2015
分子印迹技术(molecular imprinting technology,MIT)是指制备对特定目标分子具有专一识别性能的聚合物技术。离子印迹技术(ion imprinting technology,IIT)作为分子印迹技术的重要分支,因存在金属离子配位作用而具有很多优势,近年来得到了快速的发展。本文介绍了离子印迹技术原理、制备方法及其在金属的痕量和超痕量分析时的应用,并针对海洋环境监测中非常受关注的典型重金属污染离子(铅、汞、铜、镉、铬、砷)的主要研究进展进行了综述 ...
傅骏青 王晓艳 陈令新, 陈令新
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ECR等离子体源中基本参数的数值模拟

open access: yes, 1998
采用混合模型 求解了ECR等离子体源中的各种物理参量,着重研究了中性气压、微波功率对等离子体参数(如等离子体密度、电子温度、等离子体电势)以及离子能量和方向角分布的影响,并讨论了与之相关的均匀性 ...
吴汉明, 刘明海, 胡希伟
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一种离子迁移谱仪

open access: yes, 2014
本发明涉及一种离子迁移谱仪,包括离子迁移谱仪和中空密闭的恒温箱;离子迁移谱仪设置于恒温箱内,离子迁移谱仪的进样口穿过恒温箱的外壁与外界相连通。离子迁移谱仪的离子迁移管有电加热装置用来实现离子迁移管工作在恒定温度下,恒温箱实现离子迁移谱仪工作环境恒定温度。这样离子迁移谱仪有效解决温度对离子迁移率和仪器其他元器件的影响 ...
李海洋, 仓怀文, 王新, 李东明
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离子成像方法研究光解离和光电离

open access: yes, 2002
离子速度成像是近几年来发展起来的新技术,在分子光解动力学的研究中已成为一种强有力的实验技术手段。作者在论文工作中,参与建造和调试了国内第一套离子成像装置,发展完善了一套成像分析方法。并利用该装置分别对碘原子的光电子能谱和硫醇的光解动力学进行了研究。 在发展这套实验技术的过程中,我们力图使这套装置成为一个能够全面搜集光解过程中各种信号的信息采集平台,并采用速度成像方法大幅度地提高了成像分辨本领。仔细考察了图像分析算法,指出了其中引入的近似并提出了一种修正方法 ...
张竞辉
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一种离子迁移谱离子信号引出和密封装置

open access: yes, 2014
本发明涉及一种离子迁移谱的离子电流信号引出以及密封的装置。具体为一种具有密封作用的法拉第盘离子电流信号引出装置。其特点是:可以实现良好的密封和可靠的微电流信号引出,并防止加热 ...
陈创   +5 more
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质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

open access: yes, 2000
用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜,X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明,此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗粒。碳离子的浅注入是该碳膜SP~3形成的主要机理 ...
刘志凯   +6 more
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魔芋葡甘聚糖DEAE阴离子交换介质的制备及表征

open access: yes, 2007
以交联的魔芋葡甘聚糖微球(KGM)为基质,制备了DEAE型的阴离子交换层析介质,考察了反应物浓度、温度、时间等反应因素对魔芋葡甘聚糖层析介质离子交换容量的影响,确定最优反应参数。结果表明,层析介质的离子交换容量达到3.42mmol/g,蛋白吸附容量高达126.84mg/mL,蛋白洗脱率为90.42%
马光辉   +4 more
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阳离子交换树脂对盐酸麻黄碱交换吸附与解离的研究

open access: yes, 2001
研究了强酸型阳离子交换树脂对盐酸麻黄碱的交换吸附与解离作用。发现在弱碱和酸性溶液中树脂对盐酸麻黄碱的亲和力很强,强碱性环境则不利于同树脂的亲和;用2.0 Mol/L NaOH或2.0 Mol/L HCl作为解离液时的解离效果优于2.0 Mol/L NaCl溶液的解离液效果;温度对解离的影响不是很大,在室温条件下进行解离即可取得较好的解离效果;选用了有机溶剂乙醇、乙二醇、乙腈和四氢呋喃作为解离增强剂,以乙醇较为合适,且其浓度在15%左右时较好;在给定离子交换柱中的解离情况,用含2.0 Mol/L HCl ...
王云山   +3 more
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高纯四氯化硅的研制

open access: yesGuangtongxin yanjiu, 1982
<正> 四氯化硅是制作石英光纤的主要原料,它的纯度直接影响光纤的损耗特性,造成光纤吸收损耗的有害杂质主要有铁、钴、镍、铜、锰、铬、钒、铂和氢氧根,国内外资料认为,光纤中有害过渡金属离子和氢氧根离子的总浓度要低于百万分之一,而个别的离子浓度要低于亿分之一。有害金属杂质的吸收波长及造成的损耗大小随价态、含量和它周围的玻璃状态而变化。上述各有害杂质的吸收峰值波长的分布区域,从紫外波段的0.2μm起,经过可见光波段 ...
石青
doaj  

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