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Electrodeposición de cinc en medio ácido. Eficiencia de la reacción en la zona de potenciales de deposición masiva con control activado [PDF]
, 2017 En éste trabajo se utiliza la técnica de deposición voltamétrica rápida y el crecimiento potenciostático de los electrocincados. Luego la disolución de los depósitos en solución de disolución adecuada.
Mahmud, Z. +2 more
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[Frontal region oedema as the first sign in Henoch-Schönlein purpura]. [PDF]
An Pediatr (Barc), 2022 Yüksel S.
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DEPOSICIÓN ELECTROQUÍMICA DE FOSFURO DE INDIO
Anales (Asociación Física Argentina), 2013 La deposición electroquímica de un compuesto casi estequiometrico de fosfuro de indio fue obtenida a partir de soluciones acuosas de hexaflúorfosfuro de amonio y cloruro de indio sobre substratos de titanio, silicio y grafito en diversas condiciones de ...
S. F. Gueijman +2 more
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Revista de Producción Animal, 2015 Se compararon dos inseminaciones: con deposición en el cuerpo del útero y con deposición intracornual en 40 novillas Holstein-Friesian, de la provincia del Azuay, cantón Cuenca, Parroquias Cumbe y Victoria del Portete.
Víctor Guillermo Serpa García +2 more
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Nucleus, 2006 Se desarrollaron dos métodos para determinar la concentración de As total y sus especies inorgánicas mediante fluorescencia de rayos X dispersivo de energía (FRXDE) y la voltametría de redisolución catódica (VRC).
Lino Valcárcel Rojas +1 more
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[Leukocytoclastic vasculitis secondary to vaccination against SARS-CoV-2]. [PDF]
Semergen, 2022 Martín Guerra JM, Moreta Rodríguez M.
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Deposición selectiva de cobre utilizando CVD
, 2017 La deposición química de vapor (CVD) es una técnica que se ha utilizado con éxito para obtener películas metálicas delgadas de cobre. Adicionalmente, mediante el tratamiento previo del substrato se puede depositar selectivamente, esto es, recubrir sólo ...
Ogura, Tetsuya +4 more
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Estudio de la deposición asistida por plasma de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas
, 2005 La deposición asistida por plasma (PECVD) de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas es un proceso de gran interés debido a su posible aplicación en microelectrónica como materiales de baja constante dieléctrica o low-k. En este tipo de procesos
Yanguas Gil, Ángel
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DISEÑO Y CONSTRUCCIÓN DE PORTA-BLANCOS MÚLTIPLE PARA UN SISTEMA DE DEPOSICIÓN POR LÁSER PULSADO
Anales (Asociación Física Argentina), 2008 Se desarrollo un porta-blancos múltiple que permite rotar el blanco durante la deposición, además del cambio de blanco para el crecimiento de películas multicapas, sin necesidad de abrir la cámara de deposición, condición que es indispensable para el ...
M. I. Oliva +2 more
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Caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma [PDF]
, 2001 El desarrollo de este trabajo, consiste básicamente en la caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma; este sistema consta de una cámara cilíndrica en acero inoxidable la cual contiene en su interior dos ...
García García, Luis Alpidio
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