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Verfahren zum Erzeugen einer mikromechanischen Struktur fuer ein mikro-elektromechanisches Element

Bei einem Verfahren zum Erzeugen einer mikromechanischen Struktur fuer ein mikro-elektromechanisches Element wird zunaechst eine erste Zwischenschicht, die auf eine erste Hauptoberflaeche eines ersten Halbleiterwafers aufgebracht ist, strukturiert, um eine Ausnehmung zu erzeugen.
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