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Zhongguo shiyan zhenduanxue, 2012 孤独症（autism）是以社会交往障碍、沟通障碍、局限性、刻板性、重复性行为为主要特征的心理发育障碍。1943年Kanner首次正式报道了11例孤独症患儿,我国最早由南京精神病研究所陶国泰教授于1982年首次报道。根据美国精神障碍诊断与统计手册第四版疾病的分类（Diagnostic20and20Statisti-cal20Manual20of20mental20disorders,DSM-Ⅳ）,孤独症属于广泛性发育障碍(Pervasive20developmental20dis-
李洪华 +8 more
doaj
Zhongguo shiyan zhenduanxue, 2022 ASD),简称孤独症或自闭症,是一种有生物学基础的神经发育障碍,特征为社会交流与社交互动缺陷,行为、兴趣或活动模式的局限、刻板重复两个重要领域的缺陷[1]。ASD发病率呈不断上升的趋势,位列儿童精神发育障碍的首位[2]。ASD病因及发病机理尚未完全明晰,病程可持续一生。ASD治疗的主要方式为教育干预,并辅以药物治疗。也有学者尝试用音乐[3-5]、运动[6-7]、游戏[8-9]、动物辅助干预[10-11]等来帮助孤独症患儿。动物辅助干预(Animal-Assisted Intervention AAI ...
doaj
野生动物学报, 2020 2014年12月—2015年9月、2016年3月—6月，采用扫描观察法结合焦点动物观察法交替对德清圈养朱鹮种群和野外重引入种群的朱鹮个体进行行为观察和记录，按照朱鹮行为的功能和目的共计描述定义朱鹮行为8类55种，其中停歇行为4种、警戒行为4种、整理行为10种、运动行为3种、社会行为8种、繁殖行为12种、觅食行为7种、刻板行为7种。比较圈养朱鹮种群和野外重引入朱鹮种群的行为差异发现 ...
邱国强 1 +4 more
doaj
Zhongguo shiyan zhenduanxue, 2012 孤独症,又称自闭症,这一概念最早是由瑞士精神病医生Eagen Bleuer提出的,而第一例关于孤独症的临床研究是由美国临床医学家Kanner在1943年首先报道[1]。儿童孤独症是一种较常见的严重的神经系统发育障碍性疾病,主要表现为儿童自幼开始在语言交流和非语言交流方面存在严重障碍、重复刻板行为等。
王伟 +7 more
doaj
, 2016 刻板印象是人们有关某一群体成员的相对固定的观念或期望所构成的认知结构以及特定的社会认知图式,它对人们的社会认知和行为有着重要的指导性作用。以往刻板印象研究只局限于对群体的描述。政府刻板印象指人们对政府机构及其成员所持有的概括的、固有的观念,在某种程度上说是不同于先前刻板印象的新概念。那么在中国,民众对政府的刻板印象包含哪些内容?影响民众对政府刻板印象的因素又有哪些?本研究旨在提出政府刻板印象的概念
周洁, 贾奇凡
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金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用 [PDF]
, 2003 主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构 ,用SEM和AFM对实验结果进行了表征 ,表征结果证明约束刻蚀剂层技术在金属三维加工方面的可行性和潜在优势。金属Cu由于具有优良的导热导电性能以及很好的延展性 ,在微系统 (也称微机电系统 )中应用广泛 ...
张力 +10 more
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, 2016 一种金刚石针尖阵列模板压印纳米孪晶化表面制造方法，属于纳米孪晶化表面制造技术领域。其特征是采用光刻技术在硅片表面刻蚀出倒金字塔坑阵列，作为金刚石针尖阵列生长的母版。采用微波等离子化学气相沉积方法生长带有均匀排列的金刚石针尖阵列的金刚石模板，用氢气和甲烷进行金刚石模板的生长。采用氢氟酸和硝酸的混合溶液刻蚀硅基板，形成金刚石针尖阵列模板，针尖的曲率半径为100-900nm，高度为18-30μm，长、宽和间距为几十个μm，金刚石针尖的尺寸和形状均匀一致，针尖阵列排列均匀 ...
段能东 +4 more
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, 2010 以往違反刻板印象訊息的研究著重在訊息端變項而忽視知覺者特性，本研究以內隱理論為知覺者變項。內隱理論可區分出本質論者（視他人特質是穩定不變的）與增益論者（視他人特質是可改變的），過去研究發現本質論者較增益論者的刻板印象信念強。此外，過去研究發現人們維持刻板印象需有認知資源，若無認知資源，接收違反刻板印象訊息則改變刻板印象。由於人們處理違反刻板印象訊息可能受其內隱理論的影響，即使具有認知資源，接收違反刻板印象訊息也可能改變刻板印象。本研究提出「刻板印象強度觀點」與「內隱理論反應觀點 ...
許人禾
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, 1995 采用约束刻蚀剂层技术（ＣＥＬＴ）有可能实现纳米级的超微加工目的￣［１，２］。约束刻蚀层形成的方法之一是：通过电化学反应在模板表面上产生刻蚀剂，其在向外扩散过程中即与其它未有刻蚀作用的溶液组分发生快速均相化学反应，从而使刻蚀剂失去活性，刻蚀剂的扩散层厚度可约束在紧靠模板的范围内。而ＣＥＬＴ技术则取决于产生能对特定材料具有高度腐蚀性的腐蚀剂和具有合理的清除反应体系；象强氧化剂溴，邻菲绕啉铁（Ⅲ）和过氧化氢等均可作为刻蚀剂，Ｂａｒｄｅｔａｌ￣［３］等研究者借助扫描电化学显微镜（ＳＥＣＭ ...
吴金添 +4 more
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, 1998 利用二次离子质谱(SIMS)并结合X-射线衍射分析(XRD)研究了AlN陶瓷基板在850-1100℃空气中退火时的初始氧化行为。结果表明, 未退火AlN陶瓷基板表面区存在很薄的富氧层。在退火10min的条件下, 随着退火温度的增加, 富氧层迅速增厚。在1100℃退火20min的条件下, AlN陶瓷基板表面区有连续的氧化层生成。最后, 结合化学热力学 ...
陈春华, 王佑祥, 岳瑞峰
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