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, 2011 本发明涉及质谱电离源中真空紫外灯的在线或离线清洗，是一种紫外灯灯头透镜外表面清洗装置，包括密封的电离腔，电离腔的侧壁上设置有真空紫外灯安装口，电离腔的侧壁上设有一贯穿电离腔壁面的导气管，导气管的出口端位于真空紫外灯下方，导气管入口端与臭氧发生器的气体出口相连，臭氧发生器气体入口与氧气源连接。本发明中利用臭氧发生器产生的含有高浓度臭氧气体在一定气压和温度下对紫外灯透镜上吸附的有机物氧化反应，实现对灯头透镜表面的清洗。本发明解决了质谱用真空紫外灯污染问题，具有非拆卸清洗，速度快，效果好的优点 ...
吴庆浩 +4 more
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Gongye shui chuli, 2003 对在线pH计的特点进行了介绍，它可以连续在线监测锅炉水等的pH及其他离子浓度。提出了适宜于炉水pH电极的清洗方法。设计了在线pH检测系统，该系统为锅炉的安全生产与自动控制提供了条件。
陈烨雷, 任沙浦
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Gongye shui chuli, 2011 针对修武化肥厂循环水系统因结垢导致传热效果降低的现象,选择先剥离黏泥,再采用废酸性冰母液在线清洗的方案对其进行综合处理,经分析清洗下来的钙垢量折合成CaCO3垢量为4764kg,清洗下来的铁锈垢量折合成Fe2O3垢量为75kg,除垢率达到95%以上,洗净率达到90%以上,符合国家要求。清洗过程中监测到碳钢挂片腐蚀速率为1.4929g/(m2.h),远低于行业标准的6g/(m2.h),确保了装置的安全运行。
周军 +4 more
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, 2015 本发明公开了一种激波风洞炮管清洗的方法，包括如下步骤：1）在炮管的待清洗的段内放入一个具有适当长度的聚氨酯泡沫体，所述聚氨酯泡沫体的直径略大于所述炮管的内径；2）通过高压破膜，使所述聚氨酯泡沫体在高压气体推动下在管内高速运动，从而对管壁进行清洗。本发明利用高压破膜提供足够压力的高压气体，从而推动聚氨酯泡沫体在炮管内高速移动 ...
董志成, 陈宏, 姜杨
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Gaoya dianqi, 2017 相对于清洗剂用于电子通信行业低压电子设备及器件,带电清洗剂用于高压绝缘子清洗,对其性能提出了更高的要求。目前,带电清洗剂已经应用于电力系统输电线路绝缘子串污秽清洗,但其对绝缘子闪络电压的影响还没有开展系统研究,这为高效安全开展高压绝缘子带电清洗剂清洗带来了隐患,为此开展了带电清洗剂对绝缘子工频闪络电压影响的试验研究。试验测试了不同污秽度等级下,喷洒4种典型带电清洗剂XP-70绝缘子的闪络电压,研究发现,喷洒4种清洗剂后,绝缘子清洁状态下的闪络电压影响不明显,闪络电压大多在80 kV左右,变化幅度较小 ...
汤振鹏 +6 more
doaj
, 2001 目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是RCA清洗技术。文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术，并利用X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法，分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面。测试结果表明，它们的去污效果基本相当。但对硅片表面的粗糙化影响方向 ...
马瑾 +4 more
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, 2002 介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等，把它和标准RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明，经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成，它们分别以Si-O健、C-O健和Si-C键的形式存在。两种清洗技术都在硅片表面产生氧化硅层，在硅片表面都存在有机碳污染，但新型半导体清洗工艺产生的有机碳污染少于标准RCA清洗。在对硅片表面的粗糙化影响方面 ...
曹宝成 +4 more
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, 2021 本发明涉及激光清洗技术，具体涉及一种实时检测激光清洗状态和质量的激光清洗系统及方法，本发明包括，清洗用激光器、激光清洗头、光谱收集系统、控制模块和PC机；PC机，通过线缆分别与光谱收集系统和控制模块相连接，用于接收光谱收集系统发送的光谱信息及向控制模块发送控制命令；控制模块，分别与清洗用激光器、激光清洗头、光谱收集系统相连接，用于向光谱收集系统发送采集触发信号及同时向清洗用激光器、激光清洗头发送控制命令；本发明可以安装在机械手中，对大体积样品进行移动式清洗及测量，使清洗过程及质量更精细化 ...
齐立峰 +4 more
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, 2018 利用双氧水溶液对硅片表面进行预氧化处理,并用改良的RCA法清洗硅片,结合金属辅助化学刻蚀(MACE)制备硅纳米线阵列(Si NWs)。通过表征发现:预氧化清洗相较于传统RCA清洗,能够降低硅片表面微粗糙度,同时提高后续制备的硅纳米线阵列的均匀性。此外,在300～800 nm波段,当硅纳米线的长度相近时,经预氧化清洗制备的硅纳米线阵列反射率降低,当硅纳米线长度为500 nm左右时,反射率降低值大于2.
程其进, 李燕秋, 渠亚洲
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, 2016 工业在线PH分析仪器（以下简称PH计或PH）是化工冶炼生产中重要的分析仪表，对于提高生产效率和产品质量具有十分重要的意义。随着工业自动化的不断发展，PH计已大量应用于湿法冶金领域，并可根据需要实现远距离传输，连续分析以及闭环控制。但因湿法冶金工况特殊性，极易发生传感器表面结垢，导致测量不准和自动控制失效。自动CIP清洗系统（Cleaning In Place又称原位清洗，在位清洗）是食品行业中一种有效的设备和管道清洗方法，在无须人工拆开设备和管道的前提下允许对整个生产线进行闭环状态下的循环清洗 ...
王正旺
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