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目的以马来酸为原料制备2,3-二巯基丁二酸(DMSA),研究DMSA对铜在0.5 mol/L NaOH溶液中的缓蚀作用。方法以马来酸为原料,通过加成、消去、加成再水解的方法制备2,3-二巯基丁二酸,利用红外光谱和质谱对其结构进行表征。通过静态腐蚀失重实验研究铜在添加不同含量DMSA的NaOH溶液中的腐蚀速度,采用极化曲线和交流阻抗谱技术研究铜在添加不同含量DMSA的NaOH溶液中电化学行为,并用电子扫描电镜观察铜表面腐蚀形貌。结果红外光谱和质谱结合证明,目标产物为DMSA。铜在DMSA质量浓度分别为0 ...
刘栓 +4 more
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高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义,而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目。然而,SECM刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而受到限制。最近,田昭武等提出的一种可进行高分辨率微加工的新方法——约束刻蚀剂层技术(CELT),可使刻蚀反应具有高度的距离敏感性,刻蚀分辨率得到极大改善。我们利用CELT技术刻蚀硅表面,以60μm及100μm直径微电极产生刻蚀剂Br2 ...
毛秉伟 +6 more
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这种复合(混)肥料的缓释长效剂由脲酶抑制剂氢醌(对苯二酚)和硝酸还原酶抑制剂双氰胺的混合物组成,同时在两种抑制剂中增添进载体,其混合重量比为1:(1-30),载体粒度为0.02-0.5mm,该长效剂适用于各种(专用)复合肥的供肥过程与作物的需肥规律相协调,可更好的满足作物全生育期的营养需求,达到增产、增收、节肥、省工的综合效果。同时,该长效剂与氮肥(包括尿素、碳铵、硫铵、硝铵等)混拌后 ...
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采用约束刻蚀剂层技术(CELT)有可能实现纳米级的超微加工目的 ̄[1,2]。约束刻蚀层形成的方法之一是:通过电化学反应在模板表面上产生刻蚀剂,其在向外扩散过程中即与其它未有刻蚀作用的溶液组分发生快速均相化学反应,从而使刻蚀剂失去活性,刻蚀剂的扩散层厚度可约束在紧靠模板的范围内。而CELT技术则取决于产生能对特定材料具有高度腐蚀性的腐蚀剂和具有合理的清除反应体系;象强氧化剂溴,邻菲绕啉铁(Ⅲ)和过氧化氢等均可作为刻蚀剂,Bardetal ̄[3]等研究者借助扫描电化学显微镜(SECM ...
吴金添 +4 more
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项目介绍:缓释长效剂是该所继长效尿素(专利申请号为:91112643.0)和棉花长效专用复合肥(专利申请号为96119508.8)之后又一新的专利产品,专利申请号:98124281.2。该项目的特点:应用该产品生产的棉花专用长效复合(混)肥肥效期可延长110-160天;应用该产品生产的棉花专用长效复合(混)肥能提高肥料利用率15%以上;应用该产品生产的棉花专用长效复合(混)肥属高浓度复合肥,总养分含量>45%;复混肥养分含量更高或按需生产。应用该产品生产的棉花专用长效复合(混 ...
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高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目.SECM刻蚀的主要原理是,利用精密定位系统使微电极接近样品表面,微电极电生刻蚀剂,刻蚀剂扩散到样品表面发生刻蚀反应,产生刻蚀图样.SECM刻蚀分辨率主要取决于微电极的尺寸,但刻蚀剂的横向扩散往往会对SECM的分辨率产生较大影响最近,田昭武等人提出了一种可进行高分辨率微加工的新方法——约束刻蚀剂层技术(CELT ...
毛秉伟 +5 more
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开发了一种酰胺类无磷缓蚀剂,在中碱度中硬度水质中进行了缓蚀应用研究。选用A3碳钢作为测试对象,采用旋转挂片失重法和电化学阻抗法对酰胺类无磷缓蚀剂的缓蚀性能进行研究。测试结果表明,该酰胺类无磷缓蚀剂在中碱度中硬度的循环水水质下具有良好的缓蚀性能,能够有效地满足循环水系统的金属缓蚀需求。
王超 +4 more
doaj +2 more sources
一种氮肥缓释药剂的制备方法,本发明是采用黄芩、黄柏、黄连、大黄、苦参、半枝莲、白藓皮、石榴皮等药物制成30—35%的水煎煮提取药液,在其中加入1.5—2.5%的聚丙烯酸即成。具有原料来源方便、成本低廉、制作简单、使用方便、易于推广的优点。所制药剂与氮肥混合后使用,不仅具有氮素缓释作用,还有防虫、杀菌和保水的作用,从而实现提高作物产量、增加作物抗性、改善作物产品品质 ...
郝明德,东秋霞
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采用约束刻蚀剂层技术,以亚硝酸钠为先驱物,通过电化学氧化产生刻蚀剂(硝酸)刻蚀铝,并以NaOH为捕捉剂,在电极模板上形成约束刻蚀剂层.在金属铝表面加工出梯型槽微结构,加工分辨率约为500 nm.通过测量表面氢离子浓度 ...
田中群 +3 more
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