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Gongye shui chuli, 2011 分别考察了高矿化度、高悬浮物、石油对微滤膜污染的影响,并对膜清洗方法进行了研究。结果表明:油田采出水中的高浓度无机组分对微滤膜仅产生一定污染;其所含有的悬浮物和石油则会对微滤膜产生严重污染,导致膜压差迅速增加,膜通量下降较快;针对石油、高悬浮物与矿化度造成的膜污染,在40℃下采用物理与化学相结合的离线清洗技术,可分别使膜通量恢复到96.2%、97.3%和99.9%;采用10d为一周期的清洗运行工艺,能有效控制膜污染,使膜组件能够连续稳定运行。
左剑恶 +4 more
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Gongye shui chuli, 2022 结合燃气电厂特性和废水情况，实施了针对燃气电厂的废水零排放处理工程：苦咸水反渗透+一体化澄清器+纳滤+电渗析/海水反渗透+次氯酸钠发生器。经处理，90%以上的废水制成了优质淡水，回用水电导率小于120 μS/cm，优于电厂取水水质；浓缩后的高盐水经电解制成次氯酸钠，该次氯酸钠可替代市售次氯酸钠用于电厂循环水杀菌；本工程无其他污染物外排，仅在澄清器输出污泥。该工程稳定运行1 a有余，期间未出现设备故障、膜污堵等问题。膜正常清洗周期为0.5 a，发生器正常清洗周期为1 a，维护工作和清洗频率均符合预期要求 ...
尹力, 岳春妹, 费剑影
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, 2017 本申请公开了一种激光焦点控制系统，所述激光焦点控制系统包括激光测距仪、场镜和计算显示单元；所述激光测距仪发出的测距激光束通过所述场镜后照射到工件表面并测距；所述激光测距仪与所述计算显示单元电连接，所述激光测距仪与所述计算显示单元输入测距结果，并由所述计算显示单元输出至少一种信号。该系统能够实时监控离焦距离，其应用于激光清洗领域，能够实现非接触式的激光清洗，尤其是狭窄空间的清洗，提高清洗的质量和效率 ...
张文武, 焦俊科
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Gongye shui chuli, 2006 利用陶瓷膜技术处理高浓度聚醚废水回收大分子聚醚多元醇。研究了浓缩倍数、温度、跨膜压差(TMP)等因素对渗透通量的影响。通过对试验数据的统计学分析，确定TMP为0.20 MPa、系统温度控制在43℃，此时CODCr的去除率>95%，达到了设计要求。并对膜清洗工序进行了改进，提出了NaOH/EDTA复合清洗法，缩短了清洗时间。
张斌 +6 more
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, 2002 介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等，把它和标准RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明，经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成，它们分别以Si-O健、C-O健和Si-C键的形式存在。两种清洗技术都在硅片表面产生氧化硅层，在硅片表面都存在有机碳污染，但新型半导体清洗工艺产生的有机碳污染少于标准RCA清洗。在对硅片表面的粗糙化影响方面 ...
曹宝成 +4 more
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Gongye shui chuli, 2015 针对反渗透设备运行后出现膜污堵的现象,分析了造成污染的原因及污染物种类,确定了清洗方案,并对反渗透设备进行了清洗和清洗效果评价。
王冬梅 +5 more
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, 2011 本实用新型涉及一种应用于半导体清洗工艺中的聚四氟乙烯清洗花篮改良结构,其包括把手和一个以上花篮本体,所述把手上设置一个以上卡槽,所述花篮本体的一侧部设置可与所述卡槽紧密插接配合的突出部。所述卡槽优选采用T型卡槽。所述花篮本体上端面上分布二个以上可以容置硅片的浅槽。所述浅槽的槽底部设置复数个竖直通孔。本实用新型在保有现有聚四氟乙烯清洗花篮各种优点的同时,还可用于同时清洗多品种、多规格的多片小片,且其底部设置的通孔还提高了清洗的效率,再者,利用卡槽,尤其是T型卡槽固定花篮本体和把手,使得清洗花篮更加坚固耐用,
黄寓洋 +7 more
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Gongye shui chuli, 1997 采用十种不同的膜清洗方法对超滤丝厂废水后被污染的中性聚砜中空纤维超滤膜进行了研究。结果表明：0.1%NaOH、0.5%NaClO、0.1%渗透剂等组成的碱性溶液(简称M溶液 ...
侯爱芹, 赵择卿
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Gongye shui chuli, 2021 针对某炼化公司循环水系统水质恶化情况，选择膜生物反应器（MBR）与频繁倒极电渗析（EDR）组合工艺深度处理循环水旁滤反洗废水和清净废水。深度处理后出水水质良好，满足《石油化工污水再生利用设计规范》（SH 3173—2013）要求，应用数字化技术使循环水系统运行更加稳定。工程运行费用为1.87元/t，EDR在线化学清洗周期为50~60 d，离线清洗周期为12~14月。
侯晓峰, 赵谨, 朱安民
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, 2012 本实用新型涉及一种晶片清洗、键合技术，尤其是指一种能高效率完成清洗和键合操作的原位等离子体清洗和键合晶片的设备。这种设备包括真空键合装置（110），还包括等离子体清洗装置，所述等离子体清洗装置与真空键合装置（110）连通。本实用新型的有益效果在于：将等离子体清洗和晶片键合过程并入到同一腔室中实施，同时实现有效、高质量的晶片清洗、去氧化层和键合。使用该技术进行基片键合，可以解决现有基片键合的污染问题 ...
何巍 +6 more
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