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各種根管洗浄法の洗浄効果と水酸化カルシウム製剤による水酸化物イオンの拡散

open access: yes
臨床において,歯根の外部吸収の治療には,根管清掃および水酸化カルシウム製剤による根管貼薬が行われている.本研究は,各種根管洗浄法のスミヤー層除去効果と水酸化物イオンの拡散に与える影響を明らかにすることを目的とした.  本実験には,抜去ヒト永久歯およびヒト乳歯の歯根部分を使用した.根管形成後,洗浄法により群分け(永久歯:G1,G2,G3,G4,G5,乳歯:G1,G2,G2-30,G2-15,G5,G5-30,G5-15)を行った.洗浄法は,G1:交互洗浄(5%NaOCl,31%H2O2),G2,G2-30,
吉原, 俊博   +2 more
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铬酸钠晶体中铝酸钠杂质的分离

open access: yes, 2000
重点研究了含有杂质氢氧化钠和铝酸钠的铬酸钠晶体中铬酸钠和铝酸钠溶解动力学.洗涤一定组成的混合晶体的结果表明,两者在溶解动力学方面具有很大差别,铬酸钠能迅速达到溶解平衡,而铝酸钠极易形成过饱和溶液,且有一定的稳定性。结果还表明,用纯水洗涤混合晶体时,铝酸钠的过饱和浓度受温度影响较小,而用含一定量的氢氧化钠、铬酸钠和铝酸钠的溶液洗涤时 ...
张懿, 邹兴
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连续分解锆英砂烧结料水洗工艺研究

open access: yes, 2014
研究了氧氯化锆生产过程中的水洗工艺,针对锆英砂连续碱熔得到的烧结料,确定了水洗优化工艺条件。研究结果表明:在液固体积质量比5∶1、温度50℃、时间30min、洗涤3次条件下,得到的水洗料中SiO2(40%ZrO2)和Na2O(40%ZrO2)的质量分数分别为3.5%和4.5%;水洗过程中,硅和钠同时被脱除,大部分硅在第1次水洗时脱除,说明锆酸钠发生了水解;水洗碱度过低时 ...
孙小龙   +5 more
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用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究

open access: yes, 2001
目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是RCA清洗技术。文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术,并利用X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法,分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面。测试结果表明,它们的去污效果基本相当。但对硅片表面的粗糙化影响方向 ...
马瑾   +4 more
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