La Química de Superficies y su Relación con la Microelectrónica
Revista de Química, 2007 Los circuitos que forman parte de cualquier instrumento electrónico son cada vez más eficientes, pero al mismo tiempolas dimensiones de sus componentes son constantemente reducidas y se están aproximando a la escala atómica.
Juan Carlos F. Rodríguez-Reyes
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Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica
, 2021 [ES] En este proyecto se aborda la cualificación de procesos de fabricación de capas de nitruo de silicio, sobre obleas de semiconductor, empleando la técnica "Low Pressure Vapor Deposition (LPCVD)". Dicha cualificación se realiza empleando como instrumento de media un elipsómetro espectroscópico.
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Diseño de Anillo Térmico para el Patrón Nacional de Ruido [PDF]
, 2012 En ese trabajo se presentan los aspectos fundamentales de una parte fundamental del que será patrón nacional de ruido térmico: el anillo que realiza el contacto térmico entre los conductores interior y exterior en la parte superior de la línea coaxial ...
Albero Ortiz, Antonio +6 more
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Dyna, 2011 Peliculas de nitruro de cromo (CrN) se han aplicado como recubrimientos protectores contra el desgaste y la corrosion debido a sus excelentes propiedades mecanicas y alta resistencia a la corrosion, y en el campo electronico debido a su baja resistividad.
DIANA MARITZA MARULANDA CARDONA +1 more
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Estado del arte uso de nanotubos de carbono para la mejora de las propiedades en los concretos [PDF]
, 2013 Trabajo de InvestigaciónLa búsqueda continua de nuevas tecnologías aplicadas a la mejoras de concreto llevó a los investigadores a encontrar en los nanotubos de carbono, propiedades que muestran una relación longitud/diámetro muy elevada: su diámetro ...
Ariza-Bachiller, Andrés +1 more
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Crecimiento y caracterización de películas delgadas de tio2 y ti1- xfexo2 [PDF]
, 2009 Titanium dioxide (TiO2) and Fe-doped titanium dioxide (Ti1-xFexO2) thin films were grown on silicon substrates using the magnetron sputtering Rf (13.56 MHz) technique.
Barrero, C. +9 more
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Study of phenomena related to the sintering process of silicon nitride at atmospheric pressure [PDF]
A procedure was perfected for the production of components used in engineering applications of silicon nitride. Particles of complex geometry that combine remarkable mechanical properties with a high density are obtained.
Bertani, A.
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Plasma and surface diagnostics of silicon nitride thin film coatings generated by SiH4+NH3 RF discharges. [PDF]
, 2008 Although plasma processing in low pressure electric discharge reactors has become an extensive and critical step in the fabrication of microelectronic devices, its development has been carried out mostly empirically so far, by changing external reactor ...
Jimenez, Ana +4 more
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Si3N4 recubierto con diamante CVD mediante filamento caliente y plasma generado por microondas
Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, 2004 Silicon nitride substrates have been diamond coated by hot-filament (home made) and microwave plasma (commercial) CVD reactors. The importance of Si3N4 as substrate relies on its favoured adhesion to the diamond film, as required in wear applications ...
Belmonte, M. +5 more
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Nanostructured films of hyperbranched polymeras template to metalic structures [PDF]
, 2015 La molécula Boltorn H30 es un polímero hiperramificado polihidroxilado de tercera generación de origen comercial con forma aproximadamente globular de diámetro promedio de 3,3 nm y tiene una cavidad endoreceptora que puede ser aprovechada para la ...
Brunetti, Veronica +2 more
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