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一种氮掺杂多孔碳薄膜的制备方法及其产品

open access: yes, 2015
本发明公开了一种氮掺杂多孔碳薄膜的制备方法,采用磁控溅射的方法,以富碳材料作为溅射靶材,以氮气或者氮气与氩气的混合气体作为溅射气氛,以金属、无机半导体材料或无机绝缘材料作为衬底制备氮掺杂碳膜,所述衬底温度为20~500℃;在真空、氮气气氛或惰性气氛中,在300~1000℃下,氮掺杂碳膜经热处理10秒~20小时后,得到所述的氮掺杂多孔碳薄膜材料。本方法无需模板,不消耗有机溶剂,简单易行;本方法制备的氮掺杂多孔碳薄膜材料具有N含量、孔尺寸可调的特点,N含量最高可达30 ...
曹鸿涛, 陈浩, 诸葛飞
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B位掺杂Bi4Ti3O12的研究

open access: yes四川大学学报. 自然科学版, 2005
制备了不同半径和价数的离子B位掺杂的BTNb,BTV,BTZr,BTHf陶瓷,并且对其性能进行了测量.发现B位掺杂可以显著增加陶瓷的2Pr,同时可以改善抗疲劳性能.研究结果表明掺杂离子半径和价数都对剩余极化有一定影响,此外掺杂离子和氧离子的电子轨道杂化也会影响材料的剩余极化.
顾骏, 李伟, 吕笑梅, 朱劲松
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铟掺杂ZnO体单晶的生长及其性质

open access: yes, 2008
研究了In掺杂n型ZnO体单晶的化学气相传输法生长和材料性质.利用霍尔效应、X射线光电子能谱、光吸收谱、喇曼散射、阴极荧光谱等手段对晶体的特性和缺陷进行了分析.掺In后容易获得浓度为10~(18)~10~(19)cm~(-3)的n型ZnO单晶,掺入杂质的激活效率很高.随着掺杂浓度的提高,ZnO单晶的带边吸收和电学性质等发生明显的变化.分析了掺In ...
董志远   +4 more
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Fe(Cu)/N改性TiO2薄膜对盐酸四环素的光催化效果

open access: yesGongye shui chuli, 2018
采用溶胶凝胶法及浸渍提拉法,制备了Fe/N、Cu/N共掺杂以及Fe、Cu、N单一离子掺杂改性的TiO2薄膜,并进行SEM表征。在紫外光和太阳光照条件下,考察了改性TiO2薄膜对盐酸四环素的光催化降解效果。结果表明:紫外光照下,Cu、N单一掺杂TiO2薄膜对盐酸四环素的降解效果较Fe/N、Cu/N共掺杂TiO2薄膜的效果好。太阳光照下,Cu/N掺杂TiO2薄膜对盐酸四环素的降解率达到69%,比其他改性TiO2薄膜的降解效果要好,且制备条件简单易行。
沈亨杰, 刘楠楠, 骆尚廉
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铌掺杂对Ce-Nb-TiO2系压敏陶瓷结构与电性能的影响

open access: yesDianci bileiqi, 2006
研究了铌对Ce,Nb掺杂的二氧化钛压敏陶瓷结构和电性能的影响。结果表明,在1 350℃烧结条件下,掺入0.8%Nb2O5的样品具有优良的综合电性能,显示出低的压敏电压(U1mA=7.22V/mm)、高的非线性系数(α=5.76),是一种很有潜力的新型电容-压敏陶瓷材料。铌掺杂主要是Nb5+对Ti4+的掺杂取代,该掺杂存在一饱和值。Nb2O5在不同的掺杂浓度下,存在的形式和位置不同,同时与一些低熔点化合物相如Ce2Ti2(Si2O7)O4等相互作用,使得样品的电性能发生变化。
姬颖敏   +4 more
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Mo的掺杂方式对TiO2光催化活性的影响

open access: yes, 2004
通过溶胶凝胶法制备了以不同方式和不同浓度掺Mo的TiO2薄膜。通过X射线衍射(XRD)、UV—VIS透射光谱、电化学阻抗谱分析了Mo对TiO2薄膜晶粒结构、光吸收性能、阻抗的影响。甲基橙光催化降解实验表明,钼的最佳掺杂方式为在薄膜底层掺杂,在表层及体相掺杂的效果均比未掺杂的TiO2差;其中以Mo的摩尔分数为1.0%、在薄膜底层掺杂时TiO2薄膜的光催化活性最佳 ...
陈俊涛   +4 more
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MgO掺杂对Ba0.65Sr0.35TiO3陶瓷结构和性能的影响

open access: yes四川大学学报. 自然科学版, 2005
用传统固相反应法制备不同MgO含量的BST陶瓷,并研究MgO掺杂对BST陶瓷结构和性能的影响.MgO掺杂后陶瓷的XRD图谱显示存在单一的钙钛矿结构,且XRD衍射峰随着MgO含量的增加向低角度方向漂移.密度测量表明,MgO掺杂后BST陶瓷的密度有所增加,并且随着MgO含量的增加而增加,FESEM照片也证实MgO掺杂后BST陶瓷的致密性有所增加.介电性能测量结果表明,MgO掺杂后介电常数和介电损耗均减小,介电色散也减弱.介电温谱显示,MgO掺杂后介电峰被压抑和展宽,表明出现扩散相变.14 ...
章天金, 江娟, 毛鸿, 张柏顺
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过渡金属元素X(X=Mn,Fe,Co,Ni)掺杂对ZnO基阻变存储器性能的影响

open access: yes, 2018
实验表明掺杂是一种改善阻变存储器性能的有效手段,但其物理机理鲜有研究.本文采用第一性原理方法系统研究了过渡金属元素X(X=Mn,Fe,Co,Ni)掺杂对ZnO基阻变存储器中氧空位迁移势垒和形成能的影响.计算结果表明Ni掺杂可同时有效降低+1和+2价氧空位在掺杂原子附近的迁移势垒,X掺杂均减小了氧空位的形成能,特别是掺杂Ni时氧空位的形成能减小最为显著(比未掺杂时减少了64%).基于该结果制备了未掺杂和Ni掺杂ZnO阻变存储器,研究表明通过掺杂控制体系中氧空位的迁移势垒和形成能 ...
Jia-Jun Guo   +4 more
semanticscholar   +1 more source

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