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Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications
Innovations technologiques, 2016Cet article detaille le principe de la methode de depot chimique par flux alternes appelee Atomic Layer Deposition (ALD). A l’issue d’un inventaire des differents materiaux pouvant etre deposes par cette technique, il est suivi d’un bref resume de ses applications principales et emergentes.
Nathanaelle SCHNEIDER +1 more
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TiO2/Ni Inverse-Catalysts Prepared by Atomic Layer Deposition (ALD)
Catalysis Letters, 2011Atomic layer deposition (ALD) was used to deposit TiO2 on Ni particles, and the catalytic activity of Ni for CO2 reforming of methane (CRM) was evaluated. In the presence of TiO2 islands on Ni surfaces, the onset temperature of the CRM reaction was lower than that of bare Ni.
Dong Wun Kim +7 more
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Pt-Ru Deposition Using ALD(Atomic Layer Deposition) for Methanol Oxidation Catalyst
ECS Meeting Abstracts, 2010Abstract not Available.
Seungbum Ha, Sanghoon Ji, Suk Won Cha
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Atomic layer deposition meets metal–organic frameworks
Progress in Materials Science, 2023Zhongchao Zhou +2 more
exaly
Elaboration of advanced photocatalytic materials by Atomic layer Deposition (ALD)
Élaboration de matériaux photocatalytiques par dépôt de couches atomiques (ALD) En raison de la contamination croissante de nos ressources en eau naturelles par une large gamme de micropolluants organiques (PMO), il est nécessaire de développer de nouveaux procédés d'oxydation avancés économes en énergie pour le traitement des eaux ...openaire +1 more source
Atomic layer deposition (ALD): from precursors to thin film structures
Thin Solid Films, 2002Markku Leskelä, Mikko Ritala
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Mechanistic details of atomic layer deposition (ALD) processes for metal nitride film growth
Journal of Molecular Catalysis A, 2008H Tiznado +2 more
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